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  • 紫外熒光定硫儀維護和保養紫外熒光定硫儀維護和保養:(一)、反應室的清洗因為紫外熒光定硫儀長時間使用,反應室內有時會有殘余物沉積,導致靈敏度降低,分析結果不重復等,所以用戶應根據使用情況定期清洗反應室。紫外熒光定硫儀清洗過程如下:1.關閉所有電源開關;2.打開機蓋和屏蔽蓋,拔去硫暗室高壓電源及信號源插頭,斷開連接管線;3.旋開暗室底座(有氣路管線的端蓋),再旋開反應室壓蓋螺絲,小心取下壓蓋、濾光片、石英片;用擦鏡紙擦石英片和濾光片,用干凈的軟布擦拭反應室內壁,如有必要,可沾用丙酮或乙醇擦洗干凈,再用氧...

    12-27 2016

  • 如何操作紫外熒光硫測定儀如何操作紫外熒光硫測定儀?紫外熒光硫測定儀操作過程主要是將盛有試樣的石英杯放入石英舟內,用固體進樣器送入石英管的氣化段,試樣在氧氣和氮氣中氣化燃燒,試樣中的氯化物轉化為氯離子,并隨氣流一起進入含有恒定銀離子濃度的滴定池中,發生反應,當電解池中銀離子濃度恢復至初始平衡濃度時,電解自動停止,記下電解產生銀離子所需的電量。比如說蒸汽吹灰,他在設計過程中存在這一些問題,設備運行時造成的煙氣中帶有大量的水蒸氣,會造成煙不能除凈的后果。又或是吹灰時蒸汽達不到要求的熱度,與設計的值偏差較大...

    12-19 2016

  • 微庫侖氯含量測定儀原理和計算公式微庫侖氯含量測定儀原理和計算公式微庫侖氯含量測定儀是根據微庫侖原理,樣品中各種形態的硫(氯)在氮氣和氧氣中于高溫下變成二氧化硫(全部變成HCl),進入滴定池,通過電解產生碘與二氧化硫反應(在池中通過電解產生銀離子與氯離子反應),微機根據產生的碘消耗的電量(微機根據產生的銀離子消耗的電量),依據法拉第定律,自動算出樣品中的總硫含量(總氯含量)。整個分析過程由計算機控制,樣品由自動進樣器載入,儀器自動化程度高。可用于石油化工產品中微量硫或氯的分析,廣泛應用于石油、化工、科研、教學...

    12-10 2016

  • 紫外熒光定硫儀的清洗及維護紫外熒光定硫儀的清洗及維護(一)、紫外熒光定硫儀反應室的清洗因為紫外熒光定硫儀長時間使用,反應室內有時會有殘余物沉積,導致靈敏度降低,分析結果不重復等,所以用戶應根據使用情況定期清洗反應室。紫外熒光定硫儀清洗過程如下:1.關閉所有電源開關;2.打開機蓋和屏蔽蓋,拔去硫暗室高壓電源及信號源插頭,斷開連接管線;3.旋開暗室底座(有氣路管線的端蓋),再旋開反應室壓蓋螺絲,小心取下壓蓋、濾光片、石英片;用擦鏡紙擦石英片和濾光片,用干凈的軟布擦拭反應室內壁,如有必要,可沾用丙酮或乙醇擦...

    12-2 2016

  • KY-403D堿值測定儀儀器安裝準備藥品KY-403D堿值測定儀儀器安裝準備藥品:冰乙酸:(上海國藥分析純)乙酸酐:分析純氯苯:分析純石油醚:分析純,60-90℃高氯酸:分析純,濃度為70%-72%(m/m)無水碳酸鈉:分析純苯二甲酸氫鉀:基準試劑蒸餾水:符合GR/T6682中的三級水要求實驗室用乳膠手套,口罩以及配制溶液所需的實驗室常用的設備和器材。(選配:甲苯:分析純;對—萘酚苯甲醇指示劑;結晶紫指示燈)

    11-28 2016

  • KY-403D全自動堿值測定儀安裝試劑KY-403D全自動堿值測定儀安裝試劑冰乙酸:(上海國藥分析純)乙酸酐:分析純氯苯:分析純石油醚:分析純,60~90℃高氯酸:分析純,濃度為70%~72%(m/m)無水碳酸鈉:分析純苯二甲酸氫鉀:基準試劑蒸餾水:符合GR/T6682中的三級水要求實驗室用乳膠手套,口罩以及配制溶液所需的實驗室常用的設備和器材。(選配:甲苯:分析純;對—萘酚苯甲醇指示劑;結晶紫指示燈)

    11-1 2016

  • KY-100(8)標準COD消解器推出新品,歡迎選購!KY-100數控微晶標準COD消解器采用微電子技術進行定時控制加熱電爐,可對8個錐形瓶刺回流管代替球回流管,并以風冷技術取代自來水冷卻方式,既可節水又能使儀器規范化,它們能在設定的時間內保持反應所必需的高溫,以保證*消解。可廣泛應用于環境保護、科研監測、生產監測等領域。儀器主要特點:1.遵循了標準(ISO)和國家標準(GB)的基本原則,保證了回流加熱微沸2小時的消解操作。2.試劑溶液的配制和加入量都和GB法一致,確保可靠的分析結果。3.簡便、分析結果,節約水資源,完成后自動關...

    10-13 2016

  • KY-200微庫侖硫氯測定儀 操作規程KY-200微庫侖硫氯測定儀操作規程一、氣源要求純度要求:提供普通氣源要求在99.95﹪以上,含水量小于5ppm。普通氧氣純度≥99.95﹪,普通氮氣純度≥99.95﹪。2、氣體種類:反應氣或燃燒氣是氧氣,為裂解氧(燃燒氧),載氣是高普通氮氣。3、流量設置裂解氧:100~250ml/min(100ml/min)氮氣:200~250ml/min(200ml/min)4、流量控制①氣源總壓≥5MPa,太小會影響分析重復性。②分壓控制在0.2~0.4MPa之間。分壓小于0.2MPa...

    8-24 2016

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